Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS 期刊简介

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS
英文简介:

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

中文简介:(来自Google、百度翻译)

《微/纳米光刻,MEMS和MOEMS杂志》 (JM3) 发表了有关光刻,制造,封装和集成技术的科学,开发和实践的同行评审论文,以满足电子,微机电系统的需求,微机电系统和光子业。

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期刊ISSN
1932-5150
影响指数
1.208
最新CiteScore值
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最新自引率
13.00%
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https://www.paper-med.com/?type=9
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通讯地址
SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225
偏重的研究方向(学科)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE &
出版周期
Quarterly
出版年份
2007
出版国家/地区
UNITED STATES
是否OA
No
SCI期刊coverage
Science Citation Index Expanded(科学引文索引扩展)
NCBI查询
PubMed Central (PMC)链接 全文检索(pubmed central)
Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS 期刊中科院JCR 评价数据
最新中科院JCR分区
大类(学科)
小类(学科)
综述期刊
工程技术
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(工程:电子与电气)4区 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY(材料科学:综合)4区 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY(纳米科技)4区 OPTICS(光学)4区
最新的影响因子
1.208
最新公布的期刊年发文量
年度总发文量 研究类文章占比
26 100.00%
总被引频次 37
影响因子趋势图
近年的影响因子趋势图(整体平稳趋势)
Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS 期刊CiteScore评价数据
最新CiteScore值
3.30
年文章数 26
SJR
0.394
SNIP
0.780
CiteScore排名
序号 类别(学科) 排名 百分位
1 Engineering Mechanical Engineering #207/596
2 Engineering Electrical and Electronic Engineering #287/693
3 Engineering Condensed Matter Physics #184/411
4 Engineering Atomic and Molecular Physics, and Optics #87/192
5 Engineering Electronic, Optical and Magnetic Materials #120/246
CiteScore趋势图
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